高純氣體管道配管技術(shù)及常見(jiàn)氣體分類

　　高純氣體管道工程系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域

　　項(xiàng)目涵蓋半導(dǎo)體、集成電路、平板顯示器、光電、汽車、新能源、納米、光纖、微電子、石油化工、生物醫(yī)藥、各種實(shí)驗(yàn)室、研究所、標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試等高科技行業(yè)。

　　高純氣體配管技術(shù)

　　高純氣體配管技術(shù)是高純氣體供氣系統(tǒng)的重要組成，是確保高純氣體能夠符合要求輸送到用氣點(diǎn)的關(guān)鍵技術(shù)。所謂的高純氣體配管技術(shù)包括系統(tǒng)的正確設(shè)計(jì)、管件和附件的選擇、施工和安裝、試驗(yàn)和測(cè)試等。

　　常見(jiàn)氣體種類

　　普通氣體電子工業(yè)中普通氣體的分類:普通氣體，也稱大宗氣體(Bulk gas )：氫氣(H2)、氮?dú)?N2)、氧氣(O2)、氬氣(A2)等特種氣體(Specialty gas )主要有 SiH4 PH3 B2H6 A8H3 CL HCL CF4 NH3 POCL3 SIH2CL2 SIHCL3 NH3 BCL3 SIF4 CLF3 CO C2F6 N2O F2 HF HBR SF6...等等。特殊氣體類別通?？煞譃楦g性、毒性、易燃性、助燃性、惰性等。

　　常用半導(dǎo)體氣體分類如下:

　　(一)、腐蝕性 / 毒性：HCl 、BF3、 WF6、HBr、SiH2Cl2、NH3、 PH3、Cl2、 BCl3 …等

　　(二)、可燃性：H2、 CH4、 SiH4、PH3、AsH3、SiH2Cl2、B2H6、CH2F2、CH3F、CO…等

　　(三)、助燃性：O2、Cl2、N2O、NF3…等

　　(四)、惰性：N2、CF4、C2F6、C4F8、SF6、CO2、Ne、Kr、He…等 半導(dǎo)體氣體很多是對(duì)人體有害。

　　特別是，其中一些氣體如SiH4具有自燃特性。一旦發(fā)生泄漏，它們就會(huì)與空氣中的氧氣劇烈反應(yīng)并開(kāi)始燃燒。AsH3也有毒性。任何輕微的泄漏都可能對(duì)人們的生命造成傷害。正是由于這些明顯的危險(xiǎn)，所以對(duì)于系統(tǒng)設(shè)計(jì)的安全要求特別高。

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